顯微分光膜厚(hou)儀(OPTM系列(lie))
測(ce)量(liang)目標膜的(de)**反射(she)率,高(gao)精(jing)度(du)測量膜厚(hou)和(he)光(guang)學常(chang)數(shu)!非(fei)接(jie)觸(chu)·非(fei)破壞(huai)·顯微
測(ce)量時(shi)間(jian)僅(jin)1秒!
OPTM系(xi)列(lie)使(shi)用(yong)顯微光(guang)譜法在微小(xiao)區(qu)域(yu)內(nei)通過**反射(she)率進(jin)行(xing)測量(liang),可(ke)進(jin)行(xing)高(gao)精(jing)度(du)膜厚(hou)度(du)/光學常(chang)數(shu)分析。通(tong)過非(fei)破壞(huai)性和(he)非(fei)接(jie)觸(chu)方(fang)式測量(liang)塗膜的(de)厚(hou)度(du),例如(ru)各種膜、晶(jing)片(pian)、光學材(cai)料(liao)和(he)多(duo)層膜。 測(ce)量(liang)時間(jian)上(shang),能達(da)到1秒/點(dian)的高(gao)速(su)測量(liang),並且(qie)搭載了即(ji)使(shi)是(shi)初(chu)次(ci)使用(yong)的用戶,也(ye)可(ke)容易(yi)出分析光(guang)學常(chang)數(shu)的(de)軟(ruan)件

產(chan)品特(te)點(dian):
頭部集成了薄(bo)膜厚(hou)度(du)測量所(suo)需(xu)功(gong)能(neng)
通過顯微光(guang)譜法測量高(gao)精(jing)度(du)**反射(she)率(多(duo)層(ceng)膜厚(hou)度(du),光學常(chang)數(shu))
1點(dian)1秒高(gao)速(su)測量(liang)
顯微分光下廣(guang)範圍(wei)的光學系(xi)統(紫外***近(jin)紅(hong)外)
區(qu)域傳感(gan)器(qi)的(de)安(an)全(quan)機制(zhi)
易(yi)於分析向導,初學者(zhe)也能(neng)夠進行(xing)光學常(chang)數(shu)分析
獨(du)立(li)測量(liang)頭對應(ying)各(ge)種inline客(ke)制(zhi)化需(xu)求(qiu)
支持(chi)各(ge)種自(zi)定(ding)義(yi)
測量(liang)項目:
**反射(she)率測(ce)量(liang)
多(duo)層膜解(jie)析(xi)
光(guang)學常(chang)數(shu)分析(n:折(zhe)射(she)率,k:消光系(xi)數(shu))
應(ying)用(yong):
半導(dao)體:晶(jing)圓(yuan)樣品的(de)自動(dong)調整(zheng),晶圓(yuan)的彎(wan)曲檢測
光學元(yuan)器件:鏡(jing)頭鏡(jing)片(pian)的(de)放射(she)率,彎(wan)曲等(deng)檢測
顯微分光膜厚(hou)儀(OPTM系列(lie)) 產(chan)品規(gui)格(ge)型(xing)號:
OPTM-A1 | OPTM-A2 | OPTM-A3 | |
波(bo)長(長)範圍(wei) | 230 ~ 800 nm | 360 ~ 1100 nm | 900 ~ 1600 nm |
膜厚(hou)範圍(wei) | 1nm ~ 35μm | 7nm ~ 49μm | 16nm ~ 92μm |
測定(ding)時(shi)間 | 1秒 / 1點(dian) | ||
光斑大小(xiao) | 10μm (***小(xiao)約(yue)5μm) | ||
感(gan)光(guang)元件 | CCD | InGaAs | |
光源(yuan)規(規)格 | 氘(dao)燈+鹵素燈 | 鹵素燈 | |
電源(yuan)規(規)格 | AC100V±10V 750VA(自(zi)動(dong)樣品臺(tai)規格) | ||
尺寸(cun) | 555(W) × 537(D) × 568(H) mm (自(zi)動(dong)樣品臺(tai)規格之(zhi)主(zhu)體部(bu)分) | ||
重量(liang) | 約(yue) 55kg(自動(dong)樣品臺(tai)規格之(zhi)主(zhu)體部(bu)分) | ||