顯(xian)微(wei)分光(guang)膜(mo)厚儀(yi)
測量(liang)目標(biao)膜(mo)的**反射(she)率(lv),高(gao)精(jing)度(du)測量膜厚(hou)和(he)光學(xue)常(chang)數(shu)!非(fei)接觸(chu)·非(fei)破壞·顯(xian)微(wei)
測量(liang)時間僅(jin)1秒!
OPTM系列使(shi)用(yong)顯(xian)微(wei)光譜法在微(wei)小(xiao)區域內(nei)通(tong)過(guo)**反(fan)射(she)率(lv)進(jin)行測(ce)量,可進(jin)行高(gao)精(jing)度(du)膜厚度(du)/光學(xue)常(chang)數(shu)分(fen)析(xi)。通(tong)過(guo)非(fei)破壞性(xing)和非(fei)接觸(chu)方式(shi)測量(liang)塗膜(mo)的厚度(du),例如(ru)各種(zhong)膜、晶片、光(guang)學(xue)材(cai)料和多層(ceng)膜。 測(ce)量(liang)時間上,能達到(dao)1秒/點(dian)的高速測量(liang),並且搭(da)載了(le)即(ji)使(shi)是初次使(shi)用(yong)的用戶,也可(ke)容(rong)易(yi)出分(fen)析光學(xue)常(chang)數(shu)的軟件

產(chan)品(pin)特(te)點(dian):
頭(tou)部集成(cheng)了(le)薄膜厚(hou)度(du)測量所需(xu)功能
通(tong)過(guo)顯(xian)微(wei)光譜法測量高(gao)精(jing)度(du)**反射(she)率(lv)(多層(ceng)膜厚(hou)度(du),光學(xue)常(chang)數(shu))
1點(dian)1秒高(gao)速(su)測量(liang)
顯(xian)微(wei)分光(guang)下(xia)廣範(fan)圍(wei)的光學(xue)系統(tong)(紫(zi)外***近紅(hong)外)
區域傳(chuan)感器(qi)的安全(quan)機制
易(yi)於(yu)分析(xi)向導,初學(xue)者(zhe)也能夠(gou)進(jin)行光(guang)學(xue)常(chang)數(shu)分(fen)析(xi)
獨(du)立測量(liang)頭對(dui)應各種(zhong)inline客(ke)制化需(xu)求(qiu)
支(zhi)持各(ge)種(zhong)自(zi)定(ding)義(yi)
測量(liang)項(xiang)目:
**反射(she)率(lv)測(ce)量
多層(ceng)膜解(jie)析
光(guang)學(xue)常(chang)數(shu)分(fen)析(xi)(n:折(zhe)射(she)率(lv),k:消光系數(shu))
應用:
半(ban)導體(ti):晶圓(yuan)樣(yang)品(pin)的自(zi)動(dong)調整,晶圓(yuan)的彎曲(qu)檢(jian)測
光(guang)學(xue)元器(qi)件:鏡頭鏡片的放(fang)射(she)率(lv),彎(wan)曲(qu)等檢(jian)測
顯(xian)微(wei)分光(guang)膜(mo)厚儀(yi) 產(chan)品(pin)規格(ge)型號:
OPTM-A1 | OPTM-A2 | OPTM-A3 | |
波(bo)長(長)範(fan)圍(wei) | 230 ~ 800 nm | 360 ~ 1100 nm | 900 ~ 1600 nm |
膜(mo)厚範圍(wei) | 1nm ~ 35μm | 7nm ~ 49μm | 16nm ~ 92μm |
測(ce)定(ding)時間 | 1秒 / 1點(dian) | ||
光(guang)斑大小(xiao) | 10μm (***小(xiao)約5μm) | ||
感(gan)光元件 | CCD | InGaAs | |
光源(yuan)規格(ge) | 氘燈(deng)+鹵素燈 | 鹵素燈 | |
電源(yuan)規格(ge) | AC100V±10V 750VA(自(zi)動(dong)樣(yang)品(pin)臺(tai)規格(ge)) | ||
尺寸(cun) | 555(W) × 537(D) × 568(H) mm (自(zi)動(dong)樣(yang)品(pin)臺(tai)規格(ge)之(zhi)主體(ti)部分) | ||
重(zhong)量 | 約 55kg(自(zi)動(dong)樣(yang)品(pin)臺(tai)規格(ge)之(zhi)主體(ti)部分) | ||